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杭州半导体技术有限公司5m³/h 超纯水系统
来源: | 作者:1 | 发布时间: 2025-07-08 | 34 次浏览 | 🔊 点击朗读正文 ❚❚ | 分享到:

UPW水

用于晶圆清洗

项目

限值

项目

限值

温度

22±1℃

硝酸盐

0.05

压力

0.3~0.5mpa

亚硝酸盐

0.05

流量

12m³/h

磷酸盐

0.05

电阻

≥18.2MΩ

硫酸盐

0.05

TOC

<2PPb

0.02

DO

10PPb

0.02

Particle

0.05-0.1Um  1000Pcs/L

0.1

0.5-0.1Um   350Pcs/L

0.02

0.2-0.5Um <100Pcs/L

0.02

0.5-1.0Um <50Pcs/L

0.02

1.0Um     <25Pcs/L

0.02

PH

6.3-7.5

0.02

菌落

0.03 cfu/ml

0.02

总硅

3PPb

0.02

溶解硅

0.5PPb

0.02

铵离子

0.1

0.02

氯离子

0.05

0.02

氟离子

0.05

0.02

0.02